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EUV 之外的下一代光刻包括 X 射线光刻、电子束光刻、聚焦离子束光刻和纳米图 光刻。纳米压印之所以能够使 EUV 取得成功，是因为其固有的简单性和较低的操作成本，以及它在 LED、硬盘 驱动器和微流体领域的成功。
作者
钱丹迪普·考尔和哈文德·辛格

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